不同制冷剂、清洗剂的性能和应用场景

清洗、制冷行业与人们生产和生活实践密切相关。随着社会的发展和科技的进步，电子信息行业发展迅猛，人们对电子相关行业提出了更高的要求：精确、稳定、轻巧、可靠等，同时需要提供良好的清洗和降温条件。电子元器件、精密元件等电子信息产品，他们当然也需要“洗澡”“降暑”，并且对清洗剂和制冷剂提出了更高的要求，如能效高、安全低毒、无污染等，氢氟醚（HFE）系列氟化液堪此重任，对HFE氟化液的研究也成为社会、企业界和学术界关注的热点。

一. 氟化液的性能

HFE氟化液是氢氟醚类的氟溶液，用于锂电池添加剂、润滑油的溶剂、反应溶剂、制冷剂、清洗剂等领域。

HFE氟化液能够“担任”对电子元器件、精密元件等电子信息产品进行清洗和制冷“大任”除了安全环保、低全球暖化潜势（GWP），还有优异的性能，具体如：

安全方面：无毒，不燃、无闪点；

环境方面：臭氧消耗潜能值（ODP）为0，低全球暖化潜势（GWP）系数、大气寿命短，满足环保法规的要求，是CFC、HCFC、HFC 和 PFC的最佳替代品之一。

性能方面：表面张力低、低粘度；高密度；适中的溶解力；优秀的电气绝缘性能；优秀的导热性；不燃、无闪点；热稳定性、化学稳定性。

下面介绍在电子元器件、精密元件等电子信息产品领域，HFE氟化液中的“清洗大将”HFE氟化液D3、“制冷大将”HFE氟化液D4。

二. “清洗大将”—HFE氟化液D3

HFE氟化液D3堪担电子元器件、精密元件等电子信息产品的“清洗大将”，可作为单一纯溶剂清洗，也可与碳氢清洗剂结合。

作为单一纯溶剂进行清洗，具有优秀的干燥性能；优秀的材料兼容性；不具可燃性等。

具体应用举例：CCD、CMOS传感器等电子设备的除尘（清除颗粒）；半导体生产装置零件、腔体的清洗；颗粒的擦除清洗；印刷零件压膜后的清洗。

与碳氢清洗剂结合，共溶系统实现了清洁装置的不燃化，因此可控制着火的危险性；清洗后无残留，品质更高；干燥时的温度偏低，对工件的热冲击较小；优秀的材料兼容性；表面张力低，可渗透清洗并干燥工件的细微结构。

具体应用举例：液晶模块、面板的清洗；精密加工零件的硅油清洗、干燥；航空机零件的切削油去除清洗。

三. “制冷大将”——HFE氟化液D4

在冷却、热交换控温用途中，在半导体线宽日益细化的过程中，对用于导热和控温的冷媒的要求更高，更多样化。

HFE氟化液D4堪担电子元器件、精密元件等电子信息产品领域“制冷大将”。可作为半导体等生产装置冷媒，具有优秀的电气特性；可选温度范围广；没有沉淀物；不燃性等。

具体应用举例：干法蚀刻装置；光刻；离子喷射器；探头；IC测试器等。